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熱電阻蒸發式真空鍍膜機

*非標定制實驗室設備

熱電阻蒸發式真空鍍膜機,采用熱電阻蒸發鍍膜,配1~3組電阻蒸發源,結構設計緊湊,性能穩定可靠,自動化操作界面,操控簡單方便。廣泛應用于科研院所、實驗室制備金屬、導電薄膜、光學薄膜等,同時可選配離子源用于離子束清洗及輔助鍍膜能力;選配電子槍,擴展沉積薄膜類型應用。

特點

一體式系統框架設計

前開門真空腔體,方便取放基片、添加蒸發材料以及真空室的日常維護;

大口徑擴散泵作為主抽泵,真空極限高達3×10-4Pa;另可選分子泵或者低溫泵作為主抽泵,真空極限≤5×10-5Pa(2×10-8Torr);

標配冷阱,提高成膜質量;可選配深冷,縮短抽真空時間

可選配E型電子槍,4~8個坩堝

可選配離子源用于離子束清洗及輔助鍍膜能力。

可定制各類基板尺寸,加熱或水冷

采用Inficon膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚

可沉積金屬;非金屬;化合物等薄膜材料

應用

科研與教學

主要指標

真空室:立式前開門,304不銹鋼;外壁通冷卻水,內襯不銹鋼防污板

真空系統:機械泵+擴散泵+冷阱(或分子泵、低溫泵)+(可選加羅茨泵)

極限真空:3.0E-4pa

恢復真空:大氣至4.0E-3pa≤15min

工作架:Φ640mm帽形工件盤等,扇形,行星,轉速可調

烘烤:上烘烤用進口管狀加熱器(下烘烤用碘鎢燈加熱);最高溫度350℃,可調可控

蒸發源:1~3組的電阻蒸發源

電子槍:選配電子束蒸發源,功率6Kv至10Kv

離子源:Φ12cm考夫曼(可選),

工藝氣體配置:1~3只進口MFC控制

膜厚控制:光學膜厚控制儀或光柵單色儀

石英晶控:國產或進口

電源:3相,380V,50Hz,約30K

其他選配:加熱型基臺、鍍膜機配套冷水機

典型應用


等離子輔助沉積Ag膜

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